พื้นผิว CaF2

สารตั้งต้น CaF2 หมายถึงวัสดุสารตั้งต้นที่ประกอบด้วยผลึกแคลเซียมฟลูออไรด์ (CaF2)เป็นวัสดุโปร่งใสที่มีคุณสมบัติทางแสงที่ดีเยี่ยม เช่น มีการส่งผ่านสูงในบริเวณอัลตราไวโอเลต (UV) และอินฟราเรด (IR)สารตั้งต้น CaF2 มักใช้ในการใช้งานที่หลากหลาย รวมถึงระบบออพติคัล สเปกโทรสโกปิก ฟลูออเรสเซนต์ และระบบเลเซอร์โดยเป็นแพลตฟอร์มที่มั่นคงและเฉื่อยสำหรับการเจริญเติบโตของฟิล์มบาง การสะสมตัวของสารเคลือบ และการผลิตอุปกรณ์ออพติคัลความโปร่งใสสูงและดัชนีการหักเหของแสงต่ำของ CaF2 ทำให้เหมาะสำหรับใช้ในส่วนประกอบทางแสงที่มีความแม่นยำสูง เช่น เลนส์ หน้าต่าง ปริซึม และตัวแยกลำแสงนอกจากนี้ พื้นผิว CaF2 ยังมีความเสถียรทางความร้อนและเชิงกลที่ดี ทำให้เหมาะสำหรับสภาพแวดล้อมที่รุนแรงและระบบเลเซอร์กำลังสูงข้อดีอีกประการหนึ่งของซับสเตรต CaF2 ก็คือดัชนีการหักเหของแสงต่ำดัชนีการหักเหของแสงต่ำช่วยลดการสูญเสียการสะท้อนและเอฟเฟกต์แสงที่ไม่ต้องการ ซึ่งจะช่วยเพิ่มประสิทธิภาพด้านการมองเห็นและอัตราส่วนสัญญาณต่อเสียงรบกวนของเลนส์และระบบ

สารตั้งต้น CaF2 ยังมีความเสถียรทางความร้อนและทางกลที่ดีอีกด้วยพวกเขาสามารถทนต่ออุณหภูมิสูงและทนต่อการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างดีเยี่ยมคุณสมบัติเหล่านี้ทำให้ซับสเตรต CaF2 เหมาะสำหรับใช้ในสภาพแวดล้อมที่มีความต้องการสูง เช่น ระบบเลเซอร์กำลังสูง ซึ่งการกระจายความร้อนและความทนทานเป็นสิ่งสำคัญ

ความเฉื่อยทางเคมีของ CaF2 ก็ให้ข้อได้เปรียบเช่นกันทนทานต่อสารเคมีและกรดหลายชนิด ง่ายต่อการจัดการ และเข้ากันได้กับวัสดุและกระบวนการผลิตที่หลากหลาย

โดยรวมแล้ว การผสมผสานระหว่างคุณสมบัติทางแสงที่ยอดเยี่ยม ความเสถียรทางความร้อน/ทางกล และความเฉื่อยทางเคมี ทำให้ซับสเตรต CaF2 เหมาะสำหรับการใช้งานที่ต้องการออพติกคุณภาพสูงและความน่าเชื่อถือ